焦磷酸盐镀铜的问题
焦磷酸盐镀铜是1997年开始在钕铁硼电镀行业使用的,目前存在如下问题。
溶液浓度高,铜离子含量18g/l以上,溶液波美度35左右,溶液黏度大,则生产过程中带出量大,流程清洗复杂,适合手动线生产,不易用于自动线生产。
溶液参数变化快,而工艺要求的参数范围窄(焦磷酸根与铜离子的比例关系为7.5~8.8之间),渗铽,则工艺参数控制难度相应提高。
主要控制元素焦磷酸根分析难度大、准确度低,则往往无法准确判断焦磷酸根与铜离子的比例关系是否在正常范围内。
焦磷酸盐镀铜工艺应用面窄,浸泡式渗镝渗铽工艺,光亮剂生产厂家少,光亮剂技术不是十分成熟,使得光亮剂的添加控制难度远高于镀镍。
总之,焦磷酸盐镀铜工艺往往难以实现---控制,总是在出现镀层问题后,依靠经验调整恢复,而难以通过分析溶液参数及时补加调整,恢复溶液的工作稳定,所以易造成生产事故现象多发。
2. 柠檬酸盐镀铜的问题钕铁硼柠檬酸盐镀铜是2003年后开发应用的新工艺,在其他行业使用很少,几乎属于磁铁行业---镀铜工艺。该工艺也存在分析困难、控制手段欠缺等难题,但更主要的是溶液生菌问题,若处理措施不当,往往使工件表面光亮度产生局部发蒙,从而影响产品。
3. 以上两种工艺存在的共同问题焦磷酸根、柠檬酸根都是铜离子的弱络合剂,则两种工艺都会对底镍层(厚度、覆盖性、漏镀等)要求较高,否则会产生置换铜现象而影响镀层结合力,并将镀铜液污染。目前生产中钕铁硼滚镀焦铜溶液稳定性相对(钢件滚镀焦铜)稍差,说明钕铁硼基体逐渐受到焦铜溶液腐蚀,产物将溶液污染。
一般,钕铁硼镀铜采用以上两种工艺生产,均要求底镍层平均厚度不低于4~5μm,以---底镀层覆盖完全,避免产生置换铜现象。但底镍层过厚增加了总镍层厚度,这尤其对小尺寸产品的磁屏蔽作用较明显,磁体磁性能大幅衰减。
钕铁硼镀层与基体的结合力差,钕铁硼渗镝渗铽---,是曾经困扰钕铁硼电镀的几大难题之一,虽然经过多年的发展这个问题已得到较大程度的解决,但生产中这样的问题总会或多或少地存在,有时甚至还挺---,所以有---拿出来说一说。俗---,“世上常事,但凡有因果”,---,钕铁硼镀层结合力也不例外,其“差”做为“果”必有其“因”,而且可能还是“多因”。那么,都是哪些因素在影响钕铁硼镀层的结合力呢?相对于普通钢件,钕铁硼材质表面有如下特殊的物理和化学性质:(1)表面粗糙、疏松多孔(物理性质);(2)化学活性极强(化学性质),可以说,影响钕铁硼镀层结合力的诸多因素均直接与这两条性质有关。
1、镀前处理
金属制品的镀前处理应做到使其表面洁净、无油污、无锈蚀,否则将难以获得结合力---的镀层。相对于普通钢件,钕铁硼产品的镀前处理难度要大一些,原因在于其粗糙、疏松多孔的表面容易“藏污纳垢”,若不将这些“污垢”---清除干净,则会对钕铁硼镀层与基体的结合力造成不利影响。早些年,钕铁硼镀层结合力---很大程度上因镀前处理不当(或不---)而造成。目前,钕铁硼镀前处理一般采用多道超声波清洗,因为超声波的空化作用利于使钕铁硼微孔内的油污、酸碱等物质得到---清除,否则会因微孔内的“污垢”清洗不净影响镀前处理,影响镀层结合力,这一点十分重要。另外,超声波清洗还利于清除钕铁硼在酸洗时表面产生的硼灰,进一步消除结合力---。钕铁硼采用超声波清洗有以下几点注意事项。
烧结钕铁硼易氧化、易被腐蚀,日久将造成磁性能的衰减甚至丧失,所以使用前必须进行严格的防腐处理。除了电镀之外,钕铁硼表面处理还可采用化学镀、电泳涂层、磷化处理等方法,今天懂磁帝将为大家介绍磷化的相关知识。
磷化处理的目的:
烧结钕铁硼永磁体磷化表面处理的目的有两个,一是作为过程防腐蚀,第二是---表面环氧浸润性。
1、过程防腐
由于烧结钕铁硼表面致密性低、多孔隙的特点,露的磁体会在空气中氧化,我们也称为被腐蚀。所以,钕铁硼磁体因周转和存放的时间过长,而又不明确后续的表面处理方法时,使用磷化工艺做简易的防腐处理非常---和有效。
磷化工艺过程简单,无需设备投资,磷化的生产过程消耗少,主要是酸、碱和磷化液,生产成本低,作为过程防腐不会明显增加磁体的生产成本,钕铁硼渗镝铽,而且能避免存储期的磁体损失,---率---。磷化后产品颜色均一,表面洁净,可以采用真空封装,---延长存放时间,存放手段优于以往的油浸、涂油存放方法。完整的磷化膜可以抵抗正常---环境的氧化腐蚀。磷化的磁体产品后续表面处理很容易,磷化膜只需简单酸洗即可完全脱净,对后续表面处理(如镀锌、镀镍等)不会产生---影响,可以随时完成后续的表面处理工艺过程。
2、---浸润性能
一些钕铁硼磁体需要环氧胶粘结、涂漆等,胶水、漆等环氧有机物的黏结力需要基体有---的浸润性能。磷化膜与环氧有机物的浸润性能好,所以需要采用磷化工艺---钕铁硼磁体表面的浸润性能。---的浸润性能,可以---环氧胶水、环氧漆与磁体的结合力。
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